太陽能矽晶片(單晶/多晶)清洗機
| 7 槽式蝕刻清洗機 |
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 流程 |
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上料
(放置載具)
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噴洗槽 |
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噴洗槽 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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化學脫膠槽
(酸性藥劑)
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| 潤洗及下料 |
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超音波潤洗 |
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化學脫膠槽
(酸性藥劑)
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| 5 槽式脫膠預洗機 |
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 用途 晶棒條切割後預洗及脫膠用。 產能 40MW (15~25 min/Run)。 應用 太陽能晶片(單晶 / 多晶)。 客制化設備 機台尺寸≒ 5,020(W) x 3,230(D) x 2,300(H)mm。 |
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流程 |
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上料
(放置載員具)
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噴洗槽 |
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噴洗槽 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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化學脫膠槽
(酸性藥劑)
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| 潤洗及下料 |
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超音波潤洗 |
| 7 槽式脫膠預洗機 |
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產能 50MW (15~25 min/Run).。 應用 太陽能晶片(單晶 / 多晶)。 客制化設備 機台尺寸
≒ 6670(W) x 3,230(D) x 2,300(H)mm。
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流程 |
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上料
(放置載員具)
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噴洗槽 |
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噴洗槽 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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超音波潤洗
+
快速排水 |
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化學脫膠槽
(酸性藥劑)
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| 潤洗及下料 |
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超音波潤洗 |
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化學脫膠槽
(酸性藥劑)
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| 11槽式晶片清洗機 |
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特點
A. 使用排片機排列完成(100pcs/ 1 Lot )後, 放入清洗機清洗以達成各產能需求。
B. 可以依客戶需求訂製專用Carrier, 可因應wafer薄片化趨勢, 亦能完整解決清洗要求。
產能
100 pcs/ 5 mints內。
應用
太陽能晶片(單晶 / 多晶)。
客制化產品
可依客戶生產條件情況設計製作。
機台尺寸≒ 7,330(W) x 2,380(D) x2,300(H)mm。 |
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流程 |
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上料
(放cassette)
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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下料 (取cassette) |
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熱風乾燥 |
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慢速拉昇除水 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
| 12槽式晶片清洗機 |
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A. 使用排片機排列完成(100pcs/1Lot ) 後, 將2 Lot 放入清洗機清洗, 以達成各產能需求。
B. 可以依客戶需求訂製專用Carrier, 可因應wafer薄片化趨勢, 亦能完整解決清洗要求。
C. 適用於單晶+鑽石切割後晶片清洗。
產能
200 pcs/ 5 mints內。
客制化產品
可依客戶生產條件情況設計製作。
機台尺寸≒ 11,660(W) x 2,380(D) x 2,300(H)mm |
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流程 |
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上料
(放cassette) |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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超音波
+
化學清洗 |
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下料
(取cassette)
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熱風乾燥 |
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熱風乾燥 |
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慢速拉昇除水 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
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超音波
+
純水清洗 |
| 5"，6"太陽能晶片排片機 |
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特點
♦利用水流將晶片排入Cassette或Carrier，可快速完成排片及清洗之要求。
♦避免薄片化之人工排列產生之破片率
♦可利用現有Cassette或訂製之Carrier完成排片要求，不需增加太多成本而達到生產需求。
全機尺寸
≒900W x 1‚500D x 2‚150Hmm(視每籃晶片數量而定)
排片速度 ≒1pcs/2 Sec。 |
| 5"，6"太陽能晶片CARRIER |
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特點
A. 5”及6” 晶片共用型CARRIER。
B. PP+玻璃纖維+SUS圓棒射出成型側板, 耐用度高。
C.不粘片, 清洗效果佳。
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